





壓力控制器用于控制前室壓力時高壓管嘴P1接通前室,低壓管嘴P2接走廊或過道;PG301壓力控制器監控兩端的壓差值,當壓差值達到設定值(25~30PA),壓力控制器常開觸點閉合,接通樓頂旁通泄壓閥電源,處于樓頂的溢流閥打開進行送風泄壓,降低壓差值,當壓差值降低到一定值(通常回差為10PA),PG301前室壓力控制器觸點斷開,樓頂旁通閥斷電,旁通閥閉合停止泄壓。
PG301壓力控制器用于控制前樓梯間壓力時高壓管嘴P1接通樓梯間,低壓管嘴P2接走廊或過道;PG301壓力控制器監控兩端的壓差值,當壓差值達到設定值(40~50PA),壓力控制器常開觸點閉合,接通樓頂旁通泄壓閥電源,處于樓頂的溢流閥打開進行送風泄壓,降低壓差值,當壓差值降低到一定值(通常回差為10PA),PG301前室壓力控制器觸點斷開,樓頂旁通閥斷電,旁通閥閉合停止泄壓。
、DLK4521通用型前室間壓差控制器壓力傳感器|樓梯間差壓控制器壓力傳感器,是我司研發生產的一款主要用于高層建筑前室及通道之間(樓梯間與走道)的壓力測量與控制,控制前室與走道防火門兩側壓差值達到或超過30Pa時打開樓頂旁通泄壓閥進行泄壓(樓梯間與前室為50Pa),確保火災時逃生人員能輕便打開防火門同時又確保煙霧無法進入前室及消防逃生走道樓梯間。
硅單芯片為襯底的SiC薄膜
五、SiC薄膜材料 SiC是另一種在特殊環境下使用的化合物半導體。它由碳原子和硅原子組成。利用離子注入摻雜技術將碳原子注入單晶硅內,便可獲得的立方體結構的SiC。隨著摻雜濃度的差異得到的晶體結構不同,可表示為β-SiC。β表示不同形態的晶體結構。用離子注入法得到的SiC材料,自身的物理、化學及電學特性優異,表現出高強度、大剛度、內部殘余應力很低、化學惰性極強、較寬的禁帶寬度(近乎硅的1-2倍)及較高的壓阻系數的特性;因此,SiC材料能在高溫下耐腐蝕、抗輻射,并具有穩定的電學性質。非常適合在高溫、惡劣環境下工作的微機電選擇使用。 由于SiC單晶體材料成本高,硬度大及加工難度大,所以硅單晶片為襯底的SiC薄膜就成為研究和使用的理想選擇。通過離子注入,化學氣相淀積(VCD)等技術,將其制在Si襯底上或者絕緣體襯底(SiCOI)上,供設計者選用。例如航空發動機、火箭、及等耐熱腔體及其表面部位的壓力測量,便可選用以絕緣體為襯底的SiC薄膜,作為感壓元件(膜片),并制成高溫壓力微傳感器,實現上述場合的壓力測量。測壓時的工作溫度可達到600℃以上。



